纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望
李国彬1; 高明亮1; 宋志国2; 王铁宝1
2008-08-15
发表期刊材料保护
ISSN1001-1560
卷号No.355期号:08页码:38-40+45+80
摘要介绍了纳米复合镀的特点,阐述了纳米SiO2/N i和纳米SiO2/N i-P复合镀层的研究现状,主要就纳米SiO2对复合镀层性能的影响进行了说明,分析了复合镀层的表面形貌和能谱数据,举例说明了纳米SiO2复合镀层在实际中的应用,并对纳米复合镀层的发展前景进行了展望。
关键词纳米复合镀 纳米SiO2/Ni复合镀层 纳米SiO2/Ni-P复合镀层
DOI10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2008.08.022
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收录类别北大核心
语种中文
原始文献类型学术期刊
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.library.ouchn.edu.cn/handle/39V7QQFX/102906
专题国家开放大学河北分部
作者单位1.河北工业大学材料学院;
2.唐山市广播电视大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李国彬,高明亮,宋志国,等. 纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望[J]. 材料保护,2008,No.355(08):38-40+45+80.
APA 李国彬,高明亮,宋志国,&王铁宝.(2008).纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望.材料保护,No.355(08),38-40+45+80.
MLA 李国彬,et al."纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望".材料保护 No.355.08(2008):38-40+45+80.
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