纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望 | |
李国彬1; 高明亮1; 宋志国2; 王铁宝1 | |
2008-08-15 | |
发表期刊 | 材料保护
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ISSN | 1001-1560 |
卷号 | No.355期号:08页码:38-40+45+80 |
摘要 | 介绍了纳米复合镀的特点,阐述了纳米SiO2/N i和纳米SiO2/N i-P复合镀层的研究现状,主要就纳米SiO2对复合镀层性能的影响进行了说明,分析了复合镀层的表面形貌和能谱数据,举例说明了纳米SiO2复合镀层在实际中的应用,并对纳米复合镀层的发展前景进行了展望。 |
关键词 | 纳米复合镀 纳米SiO2/Ni复合镀层 纳米SiO2/Ni-P复合镀层 |
DOI | 10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2008.08.022 |
URL | 查看原文 |
收录类别 | 北大核心 |
语种 | 中文 |
原始文献类型 | 学术期刊 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.library.ouchn.edu.cn/handle/39V7QQFX/102906 |
专题 | 国家开放大学河北分部 |
作者单位 | 1.河北工业大学材料学院; 2.唐山市广播电视大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 李国彬,高明亮,宋志国,等. 纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望[J]. 材料保护,2008,No.355(08):38-40+45+80. |
APA | 李国彬,高明亮,宋志国,&王铁宝.(2008).纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望.材料保护,No.355(08),38-40+45+80. |
MLA | 李国彬,et al."纳米SiO2/Ni基复合镀层的研究现状与展望".材料保护 No.355.08(2008):38-40+45+80. |
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