半导体晶圆快速冷却装置的设计
赵继忠1,2; 吴硕1,2; 李大伟1,2
2018-05-25
发表期刊自动化与仪器仪表
ISSN1001-9227
卷号No.223期号:05页码:119-122+126
摘要在半导体芯片制造过程中,光刻胶能够均匀涂抹在半导体晶圆,同时加工温度与生产环境温度相同,可以最大限度的降低光刻胶的温度波动,从而减少工艺波动。因此在涂抹光刻胶之前,将晶圆温度控制在某一温度尤为重要。为了解决这个问题,本文设计了一种性能稳定的快速冷却装置,可以将被加工的晶圆温度控制在23±0.1℃。
关键词晶圆 冷却 Pt100 装置
DOI10.14016/j.cnki.1001-9227.2018.05.119
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语种中文
原始文献类型学术期刊
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.library.ouchn.edu.cn/handle/39V7QQFX/56669
专题国家开放大学辽宁分部
作者单位1.辽宁装备制造职业技术学院;
2.辽宁广播电视大学
第一作者单位国家开放大学辽宁分部
推荐引用方式
GB/T 7714
赵继忠,吴硕,李大伟. 半导体晶圆快速冷却装置的设计[J]. 自动化与仪器仪表,2018,No.223(05):119-122+126.
APA 赵继忠,吴硕,&李大伟.(2018).半导体晶圆快速冷却装置的设计.自动化与仪器仪表,No.223(05),119-122+126.
MLA 赵继忠,et al."半导体晶圆快速冷却装置的设计".自动化与仪器仪表 No.223.05(2018):119-122+126.
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