负偏压对电弧沉积镁合金膜层结构及阻尼性能的影响
杜广煜1; 谭祯1,2; 巴德纯1; 柴昊1; 孙伟1; 韩清凯1
2012-07-15
发表期刊真空科学与技术学报
ISSN1672-7126
卷号32期号:07页码:626-629
摘要采用电弧离子镀的方式在不锈钢基片上制备镁合金膜层。对膜层样品进行了物相分析,表面形貌观察,测定微区化学成分,储能模量和损耗模量。结果表明利用电弧离子镀的方法可以在钢基底上获得镁合金膜层。制备过程中基底偏压对膜层的表面形貌有较为明显的影响,对膜层的物相和化学成分影响不大。通过储能模量和损耗模量的测试结果得到膜层样品的阻尼性能,结果表明镁合金膜层能明显的提高基底材料的阻尼性能,同时膜层样品的阻尼能力与膜层的结构形貌有明显联系。
关键词电弧离子镀 镁合金膜层 阻尼性能 实验研究
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收录类别北大核心 ; CSCD
语种中文
资助项目国家自然科学基金青年项目(51005043);中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(N100303004)
原始文献类型学术期刊
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.library.ouchn.edu.cn/handle/39V7QQFX/78929
专题国家开放大学沈阳分部
作者单位1.东北大学机械工程与自动化学院;
2.沈阳广播电视大学
推荐引用方式
GB/T 7714
杜广煜,谭祯,巴德纯,等. 负偏压对电弧沉积镁合金膜层结构及阻尼性能的影响[J]. 真空科学与技术学报,2012,32(07):626-629.
APA 杜广煜,谭祯,巴德纯,柴昊,孙伟,&韩清凯.(2012).负偏压对电弧沉积镁合金膜层结构及阻尼性能的影响.真空科学与技术学报,32(07),626-629.
MLA 杜广煜,et al."负偏压对电弧沉积镁合金膜层结构及阻尼性能的影响".真空科学与技术学报 32.07(2012):626-629.
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