HClO4-CrO3-石墨层间化合物的制备及其性能
周明善1; 刘丽梅1; 李澄俊2; 陶勇2
2010-10-15
发表期刊新型炭材料
ISSN1007-8827
卷号25期号:05页码:389-394
摘要以天然鳞片石墨、CrO3、HClO4为原料,采用化学氧化法制备石墨层间化合物(GIC);研究了反应物用量、反应时间、反应温度对石墨层间化合物膨胀容积的影响。结果表明:按石墨∶三氧化铬∶高氯酸(质量比)=1∶0.3∶5,反应温度30℃,反应时间60min的条件,可制得膨胀容积为555mL.g-1的石墨层间化合物。采用FTIR、XRD、TG等技术对石墨层间化合物的组成、结构进行表征和分析得知:石墨层间的插入物为ClO4-、Cr2O72-。GIC性能特点测试结果说明:所制GIC具有低能耗性能、良好的真空安定性、较好的8毫米波动态衰减效果。
关键词石墨层间化合物 膨胀容积 膨胀石墨 化学氧化
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收录类别北大核心 ; CSCD
语种中文
原始文献类型学术期刊
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.library.ouchn.edu.cn/handle/39V7QQFX/89368
专题国家开放大学云南分部
作者单位1.云南广播电视大学化工学院;
2.南京理工大学化工学院
第一作者单位国家开放大学云南分部
第一作者的第一单位国家开放大学云南分部
推荐引用方式
GB/T 7714
周明善,刘丽梅,李澄俊,等. HClO4-CrO3-石墨层间化合物的制备及其性能[J]. 新型炭材料,2010,25(05):389-394.
APA 周明善,刘丽梅,李澄俊,&陶勇.(2010).HClO4-CrO3-石墨层间化合物的制备及其性能.新型炭材料,25(05),389-394.
MLA 周明善,et al."HClO4-CrO3-石墨层间化合物的制备及其性能".新型炭材料 25.05(2010):389-394.
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